La ricerca aiuterà a sviluppare la prossima generazione di rivestimenti con maggiori proprietà protettive.
Un gruppo di ricercatori dell'Università di Kumamoto (Giappone) ha recentemente annunciato di aver sviluppato un film barriera agli ioni di idrogeno utilizzando ossido di grafene (GO) privo di pori interni, segnando un significativo progresso nei rivestimenti protettivi per diverse applicazioni e industrie.
Nello studio guidato dal professor Shintaro Ida dell'Istituto di nanomateriali industriali e dal professore Kazuto Hatakeyama, i ricercatori hanno sintetizzato e sviluppato con successo un film sottile da una nuova forma di ossido di grafene che non contiene pori.
Tradizionalmente, l'ossido di grafene è noto per la sua elevata conduttività ionica. Tuttavia, eliminando i pori interni, il team ha creato un materiale con migliori proprietà di barriera agli ioni di idrogeno. Il nuovo film presenta prestazioni di barriera agli ioni di idrogeno fino a 100.000 volte migliori rispetto alle soluzioni convenzionali.
Lo sviluppo è stato ulteriormente confermato in altri esperimenti, in cui il rivestimento non poroso di ossido di grafene ha protetto efficacemente una lamina di litio dalle gocce d'acqua, impedendo qualsiasi reazione. Il team di ricerca ha anche confermato che gli ioni di idrogeno si muovono attraverso i pori della pellicola convenzionale, evidenziando l'importanza di eliminarli per migliorare le capacità barriera.
“In futuro, intendiamo sfruttare le prestazioni di barriera agli ioni di idrogeno per applicazioni pratiche, affrontando anche le sfide poste dai pori nella struttura dell'ossido di grafene per sbloccare ulteriori funzionalità”, ha dichiarato Hatakeyama.